【出 处】： 相似系统理论 相似度算法 质量控制 色谱指纹图谱

【作 者】： 詹雪艳 ; 史新元 ; 袁瑞娟 ; 乔延江

【摘 要】将基于相似系统理论的改良程度相似度和新改良程度相似度的计算式统一为新程度相似度q，利用模拟样本和9批乳块消片色谱指纹图谱共有峰峰面积数据研究新程度相似度q随参数k的变化趋势。结果表明，当1〈k〈6时，1-q趋近样本共有峰平均差异与共有峰差异的标准差之和，两者的相关系数均大于0．75，相关性良好，样本的新程度相似度q与该样本多个色谱峰峰面积的平均差异和色谱峰差异的离散程度同时相关，能区分与参照样本总差异相同但差异离散程度不同的色谱指纹图谱。在共有峰峰面积差异不超过100％的情况下，新程度相似度q能反映样本里多个共有峰峰面积的平均差异以及峰面积差异的离散程度，区分与参照样本的总差异相同差异分布不同的样本，反映样本成分群中某些成分对既定配比大的偏离，适用于对样本成分群配比波动的控制。将色谱指纹图谱共有峰峰面积差异平均值与其标准偏差加和作为新程度相似度衡量标准，采用最小二乘法拟合新程度相似度计算式中的tfitted值，该kfitted值下建立的新程度相似度计算方法能反映中药内在成分的稳定性，可基于化学物质基础进行中药制剂及其生产过程的质量稳定性评价。